深圳某半导体器件电源芯片工艺厂，晶圆工艺历程中产生含硅、氟的独特生产废液，设计构思办理规模性1200吨/日。生产废液营养成分有难度，包含的奈米级硅粒子及氢氧化钠，以往办理方法步骤没办法标准。 生活污水成份及种类 最主要的造成的固体废弃物 ：氢氧化铁硅（100-500nm粒度）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 种类步骤 ：晶圆刻蚀污电镀废水 （45%）、CMP化工机戒抛光处理污电镀废水 （40%）、机器消毒水（15%） 解决技艺程序流程 改革创新用于"电学奠定+劳动防护膜分离法"技艺行车路线： 钙盐石雕文化沉淀 ：添加氯化钙弄掉氟阴阳离子（自动生成CaF2结晶） 水解酸化池反應 ：和好二沉池剂满足橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜虚报冒领微细颗粒肥料 反参透软件系统 ：脱盐率>98%，收购率75% 汽化心得 ：浓水段确保氟化物临“0”排放口 不可能实际效果 氟化物质量浓度：<8mg/L（少于国内考试内容一级的标准10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水物资使用率：70%采用水玻璃钢冷却塔补充水分 危险废弃物减轻：多效蒸发碎渣量较传统型施工工艺极大减少60%